實用性：
兼容：兼容MoNb/MTD/Ti等膜層。
便捷：一劑型，使用過程無需補液。
穩(wěn)定：壽命期間特性數(shù)據(jù)浮動小。
經(jīng)濟性：原料國產(chǎn)化。
安全性：壽命終點狀態(tài)下可保持48h無升溫。
高壽命：將原5000ppm銅離子壽命提升至7000ppm，藥液用量降低 29%。
Gate/ITO一步刻蝕：實現(xiàn)銅/ITO一步刻蝕，釋放ITO刻蝕設備產(chǎn)能。
NW工藝：用濕法蝕刻N+Asi替代干刻，釋放干刻產(chǎn)能。
開發(fā)、生產(chǎn)濕制程電子化學品及封裝材料
和其他電子行業(yè)特種功能性材料
皖公網(wǎng)安備34012202340638號
